金字塔抗反射結(jié)構(gòu)之應(yīng)用
單晶矽太陽能電池若表面未制作任何抗反射處理,將會(huì)有30~35%的光能因反射而損失。
常見的抗反射處理為:抗反射層涂佈或可使光線多重反射之表面結(jié)構(gòu),
常見的有V 字溝槽、金字塔與逆金字塔結(jié)構(gòu)。由美國University of New South Wales
所開發(fā)之著名
元件Passivated Emitter Rear Locally diffused,
該結(jié)構(gòu)中采用逆金字塔結(jié)構(gòu)來增加光吸收效率,雖然有良好的性能,
但由于此結(jié)構(gòu)需經(jīng)過多次黃光制程后,再經(jīng)溼蝕刻形成,除了耗時(shí)外,制程也相當(dāng)?shù)陌嘿F