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鍍覆離子鍍覆制造工藝表面粗糙度測(cè)量顯微鏡

信息分類：生命科學(xué)資訊　　　　作者:YIYI發(fā)布　

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鍍覆離子鍍覆制造工藝表面粗糙度測(cè)量顯微鏡


薄膜元件的制造工藝

薄膜淀積工藝

    薄膜材判的淀積方法，可以舉出真空蒸發(fā)、濺射、電解氧化、
鍍覆和化學(xué)氣相淀積(簡(jiǎn)稱CVD)等方法。真空蒸發(fā)及濺射法也
叫物理氣相淀積法(簡(jiǎn)稱PVD法)，是最常用的一種薄膜淀積方
法。最近，離子鍍覆法、離子束淀積法及分子束蒸發(fā)法等新的物
理淀積法正處在研究和發(fā)展之中，借助于新的物理淀積方法或良
好的控制手段，可望生長(zhǎng)出薄膜晶體。

    電解氧化法主要是對(duì)鉭、鈦和鋁等金屬的電化學(xué)表面氧化法，
以形成針孔少的介質(zhì)或絕緣覆蓋膜。電解氧化法是把要形成氧化
膜的金屬材料作陽(yáng)極進(jìn)行電解氧化，因此又叫陽(yáng)極氧化法。

    鍍覆法是一種歷史悠久的薄膜形成技術(shù)，但也有問(wèn)題：一是
對(duì)可鍍覆的材料有很大的限制，二是因?yàn)殄兏彩且粋�(gè)濕法過(guò)程，
存在對(duì)基片或已制成元件起化學(xué)反應(yīng)及污染問(wèn)題，所以制造膜集
成電路時(shí)，一般只用于有限幾種材料的鍍覆，如金等。

    CVD(化學(xué)氣相淀積)法，主要用于半導(dǎo)體襯底表面的外延，
即淀積半導(dǎo)體晶體的薄層。

此外，還有用紫外線使有機(jī)物氣體發(fā)生聚合反應(yīng)等方法，

    真空蒸發(fā)法真空蒸發(fā)法與水壺中的水受熱蒸發(fā)后碰
上周圍冷的物體再次成為水滴而析出的情況類似。金屬和介質(zhì)等
薄膜元件材料，因蒸氣壓比水低，所以要使之在空氣中蒸發(fā)是困
難的。此外，使這些材料在空氣中蒸發(fā)時(shí)，還存在許多不良問(wèn)題，
如氧化或者生成膜的純度降低等。

本文由出自上海光學(xué)儀器廠，轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明
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