以OM光學以及SEM電子顯微鏡觀察納米金屬點
信息分類：生命科學資訊 作者:YIYI發(fā)布
應用奈米球微影術(Nanosphere Lithography；NSL)，是利用奈米球排列出二維
平面的球陣列當作一種遮罩，于遮罩上鍍上金屬薄膜，經(jīng)由舉離后，觀察其留下
之金屬點陣列。實驗上主要分成四個部份：
(1)矽基座的清洗。
(2)奈米球微影術應用于奈米金屬粒子結構的制作。
在實驗中，探討以PS奈米球為主要材料，在矽基座上以旋轉涂布的方式制作完整
且排列有序的單層奈米球遮罩。在制作奈米球陣列的過程中，
試著改變PS奈米球與乙醇的比例，進一步觀察奈米球陣列的排列性。
(3)在鍍金屬膜的方式上，采用濺鍍與蒸鍍兩種方式。
(4)最后，將矽基座浸泡于二氯甲烷經(jīng)由震蕩舉離，
以移除奈米球得到奈米金屬點陣列
樣品制備:
1. 矽基座清洗 :
（硫酸H2O2）震蕩30分鐘→DI water震蕩10分鐘→丙酮震蕩15分鐘→
DI water震蕩10分鐘→無水酒精15分鐘
2. 奈米球混合液調配：
由奈米球懸浮液與乙醇以體積比1:11稀釋而成
3.將奈米球混合液涂布在矽基座上，涂布機轉速為750 ~ 1750 rpm，
時間為 30 ~ 70 秒。
4.基座鍍膜：
(1)濺鍍白金1800Å (2)蒸鍍鋁1800Å
5.以OM光學顯微鏡、SEM顯微鏡、FE-SEM顯微鏡等儀器掃描矽基座借以觀察奈米球的排列情形。
6.將基座浸泡于二氯甲烷并超音波震蕩5 ~ 25秒，移除奈米球。
本文由出自上海光學儀器廠，轉載請注明
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